半導體含硅廢水如何達標排放？

半導體含硅廢水如何達標排放？作為5G反戰后的新興行業(yè)半導體得到了大力的發(fā)展，大大小小的工廠(chǎng)在全國各地建成，頻發(fā)的污染問(wèn)題也讓半導體廢水成了近些年環(huán)保新賽道。

一、含硅廢水達標標準

半導體生產(chǎn)過(guò)程中會(huì )用大量化學(xué)物質(zhì)和重金屬，廢水以含氟廢水、含銅廢水、含氨廢水為主，水質(zhì)整體復雜，污染物含量較高，對環(huán)境有較大污染。

怎樣才算廢水達標呢？根據半導體行業(yè)污染物排放標準，文件對廢水中的重金屬鎘、鉻、砷、鉛、鎳、銀有明確標注排放濃度，氧化物、硫化物、氰化物、懸浮物、COD、BOD、氨氮、有機碳的日均值也做出明確規定。

二、含硅廢水處理裝置

通過(guò)分析半導體工廠(chǎng)排出的廢水，我們了解到料液呈堿性，水中含硅量較高，高溫條件下對金屬材質(zhì)有較強的化學(xué)腐蝕性。根據上述情況和半導體行業(yè)污染物排放標準，方案設計為綜合工藝由除硅、濃縮兩部分組成。

濃縮部分是回收資源和廢水處理的關(guān)注點(diǎn)，因為高溫蒸發(fā)物料存在腐蝕危險，所以選擇了蒸發(fā)溫度較低但效率高又節能的MVR蒸發(fā)技術(shù)，通過(guò)對蒸發(fā)產(chǎn)生的二次蒸汽進(jìn)行升壓升溫二次利用，達到一個(gè)循循環(huán)穩定的蒸發(fā)情況，物料能在低溫下穩定蒸發(fā)，不僅能減少熱源消耗，接觸面腐蝕問(wèn)題還能減少含硅物料的結垢問(wèn)題。

完成蒸發(fā)后的廢水進(jìn)行固液分離，得到的結晶體排出設備外，濃液繼續返回處理裝置中，蒸汽則冷凝成水收集再利用。

三、含硅廢水處理裝置優(yōu)勢

綜合來(lái)說(shuō)含硅廢水處理設備能達到環(huán)保要求，回收的資源能在工廠(chǎng)內得到實(shí)際再利用，整套設備的性?xún)r(jià)比較高，配備自動(dòng)控制系統，耐負荷、占地面積小、穩定性高、運行成本低工藝成熟且節能。

來(lái)源：MVR蒸發(fā)器廠(chǎng)家-青島康景輝laurelwoodhorses.com